某半导体芯片生产制造公司企业因晶圆擦洗步骤产生了含氨废气，需水量200吨/天。废气中除挥发酚外还包含有氟化物和微量分析天价属，除理一定的难度大。各地排放量细则需求挥发酚＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 化工废水基本成分及特征 晶圆难以清理污水（其主要来源地）：含氯离子200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀制作工艺废污水：含进样器铜、镍等巨资属，pH值动荡大 CMP机磨废水处理：含硅颗粒物及高锰酸盐指数 加工处理工艺设计注意事项 选择"催化沉定+膜分割+折点氯化"团体生产工艺： 预除理 ：添加CaCl2除氟，调节pH在7.5-8. 反渗透膜平台 ：弄掉0.01μm综上所述粒子物 反覆盖果汁 ：将氯离子浓缩造成至1000mg/L上 折点氯化 ：精确性控制氯添加量，将氧化还原电位被转化为氦气 铁离子交互 ：保障措施血本属未达标 最后效果好 氟化物安稳＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属成分少于测试限 水造纸废水处理率达75% 飞灰有量削减40%