半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
的项目视频背景
该品牌工程专业研发半导体器件用高纯氟化氢和六氟化钨,化工废水氟溶液浓度挺高且材质复杂性。多余操作制作工艺作用不稳定可靠,氟化物排放口会时常超支。工程投資2一千万元建没专业操作公共设施,设置操作程度500吨/天。
废液因素及特征
化工废水重要是来自于工作机器设备洗掉和有机废气治理洗洁:
氟亚铁离子溶度:1500-3500mg/L
含硫酸钠根阴离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含轻微钨、钼等材料事物
正确处理技术步骤流程
应对高密度结构特征,分为"中合+层级沉垫+膜处理"工艺设计:
化工废水处理抽取池:等级分类抽取的不同密度化工废水处理
采和不起作用池:分关键时期添加氢氧化的的钠和氢氧化的的钙,抑制以后pH至7.5-8.
二沉池生理反应池:加药系统PAC和PAM提高凝固效率
斜管石雕文化污泥浓缩池:高效益固液拆分
多物料过滤系统器:避开渺小颗粒状
ro反渗透到机系统:深浅脱盐和除氟
淤泥浓缩液脱水等怎么办系统软件:离心分离脱水等怎么办后淤泥建筑垃圾清运专注治理
在线播放检测程序:实时的摄像头氟亚铁离子质量浓度和pH值
终于效果好
净化处理系统软件启用数据信息:
进水并且没有及时正确地处理氟亚铁离子均匀氨水浓度:2800mg/L
冒水氟阴阳离子浓硫酸浓度:3.2mg/L(峰值)
氟弄掉率:99.9%上面的
水中水回用率:做到65%
控制系统一键化层面高,保证 污废水 处理成本投入影响30%,年收售氟化钙副物料约400吨。